第1474章加一层水（2 / 2）

他低下头继续自言自语，“一定有办法的，我必须要把这个天才的猜想变成事实。”

2002年，一位华裔林姓科学家发明了“浸润式微影技术”，彻底改变了集成电路的生产。这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，林姓科学家创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米，由此继续将摩尔定律延续下去。

但理论归理论，能不能从实验室真正到工厂，还需要经验丰富的设备商一起开发。林姓科学家去花旗国、东桑国、德意志、风车国跑了一大圈，向光刻机厂商兜售浸没式光刻的想法。但是，绝大部分大厂都不买账。

不买账的原因除了这项技术走得太“鬼才”，还有不少想法需要验证之外，另一个原因就是改变的沉没成本太高。当时主流的研发思路，都是在157nm的干式光刻技术路径上。诸多公司已经耗费了大量财力、人力、物力，如果用这种“加水”的想法，各个研究团队就得全部重新开始，推翻原有的大部分设计。

所以巨头们对林姓科学家的态度，不仅仅是不理睬，而是封杀。尼康甚至向弯积电施压，要求雪藏林姓科学家。在现实利益面前，这样的事情还发生过很多，比如柯达其实是最早研发出数码相机的公司，但缺乏自我颠覆的勇气，因为恐惧它威胁到自己的胶片业务，反而是雪藏了数码相机。

终于当林姓科学家跑到了风车国时，阿斯麦愿意做第一个吃螃蟹的勇士。虽然阿斯麦也是从干式光刻机起家，但它想通过赛马制来赌一把，既然尼康、佳能都在死磕干式法157nm光源，且进展不顺利，那这支“奇兵”的意义就是巨大的。

最终浸润式成功了。2003年，阿斯麦和弯积电合作研发的首台浸没式光刻设备——TWINSCANXT：1150i出炉，第二年又出了改进版。同年，研发进度拖慢的尼康，终于宣布了157nm的干式光刻机产品样机出炉。

但此时胜负已定，一面是用原来193nm光源但通过水进化到132nm波长的新技术，一面是157nm波长的样机，浸润式技术的优势不言而喻，这一技术成为此后65、45和32nm制程的主流，推动摩尔定律往前跃进了三代。